真空斷路器的發(fā)展很快，究其原因，固然有很多，但是基本的卻只有兩條：一是真空滅弧室技術(shù)的進(jìn)步；二是操動(dòng)機構技術(shù)的進(jìn)步。真空滅弧室是真空斷路器的心臟。真空滅弧室的進(jìn)步主要表現在如觸頭材料從CuBi轉變成CuCr，提高了開(kāi)端能力，降低了截流值，同時(shí)磁場(chǎng)從橫磁場(chǎng)轉向縱磁場(chǎng)，減少了觸頭的燒損。在工藝上，一次排封工藝的采用，使得提高了滅弧室性能及可靠性。
   操動(dòng)機構被稱(chēng)之為真空斷路器的神經(jīng)中樞，原先用電磁機構，后來(lái)出現了彈簧機構，最新又出現了永磁機構。彈簧機構結構復雜，零件數多（多達200個(gè)），加工精度要求高，且彈簧機構的出力特性與真空斷路器的負載特性不相匹配，要在凸輪輪廓曲線(xiàn)和連桿結構上進(jìn)行合理設計。永磁機構的機械結構特別簡(jiǎn)單，零部件比任何其他機構都要少，運動(dòng)部件可以減少至一個(gè)，因而機械可靠性特別高，而且永磁機構的出力特性能與真空斷路器的負載特性很好的匹配。永磁機構用永磁鎖扣，電容器（或直流屏供電）儲能，用電子控制。永磁機構特別適用于頻繁操作，如可達6萬(wàn)～15萬(wàn)次